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靶材的應用領域

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靶材的應用領域

發布日期:2017-08-28 作者: 點擊:

  眾所周知,靶材材料的技術發展趨勢與下游應用 產業的薄膜技術發展趨勢息息相關,隨著應用產業在薄膜產品或元件上的技術改進,靶材技術也應隨之變化。如Ic制造商.近段時間致力于低電阻率銅布線的開發, 預計未來幾年將大幅度取代原來的鋁膜,這樣銅靶及其所需阻擋層靶材的開發將刻不容緩。另外,近 年來平面顯示器(F P D)大幅度取代原 以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視機市場.亦將大幅增 加ITO靶材的技術與市場需求。此外在存儲技術方面。高密度、大容量硬盤,高密度的可擦寫光盤的需求持 續增加. 這些均導致應用產業對靶材的需求發生變化。下面我們將分別介紹靶材的主要應用領域,以及這些領域靶材發展的趨勢。 在儲存技術方面,高密度、大容量硬盤的發展,需要大量的巨磁阻薄膜材料,CoF ~Cu多層復合膜是如今應用廣泛的巨磁阻薄膜結構。磁光盤需要的 T b F e C o合金靶材還在進一步發展,用它制造的磁光 盤具有存儲容量大,壽命長,可反復無接觸擦寫的特 點。如今開發出來的磁光盤,具有 T b F e C o / T a和 T b F e C o / Al 的 層復合膜結構, T bF eCo/AI結構的Kerr 旋轉角達到5 8,而T b F e Co f F a 則可以接近0.8。經過研究發現, 低磁導率的靶材高交流局部放電電壓 l 抗電強度。

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  基于鍺銻碲化物的相變存儲器(PCM)顯示出顯著的商業化潛力,是NOR型閃存和部分DRAM市場的一項替代性存儲器技術,不過,在實現更快速地按比例縮小的道路上存在的挑戰之一,便是缺乏能夠生產可進一步調低復位電流的完全密閉單元。降低復位電流可降低存儲器的耗電量,延長電池壽命和提高數據帶寬,這對于當前以數據為中心的、高度便攜式的消費設備來說都是很重要的特征。( 鋯粉廠家 )


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